4 Kandungan Pada Cacial Wash yang Sebaiknya dihindari Pemilik Kulit Kering

Biasa membersihkan wajah dengan facial wash alias sabun muka? Hati-hati kulit wajah jadi kering. Ada beberapa kandungan dalam produk seperti ini yang bisa menjadikan kulit kering. Namun ada juga yang baik dalam mempertahankan kelembapan di permukaan kulit. Berikut ini penjelasan selengkapnya.

Kandungan yang Sebaiknya Dihindari
Berikut ini beberapa kandungan pada facial wash yang sebaiknya dihindari pemilik kulit kering.

1. Alpha Hydroxy Acids (AHA)

AHA berfungsi sebagai agen eksfoliasi, biasanya ditemukan para produk peeling, masker, atau facial wash.

Beberapa bentuk AHA antara lain glycolic acid, lactic acid, malic acid, citric acid, dan tartaric acid. Kandungan ini juga bisa menjadikan kulit kering, terutama jika Anda melakukan eksfoliasi terlalu sering.

2. Alkohol

Kandungan alkohol dalam bentuk apapun berpotensi untuk menjadikan kulit kering. Jika Anda memiliki kulit ekstra kering, sebaiknya hindari produk dengan kandungan ini. Bahkan lightweight lotion yang memberikan efek sejuk pada kulit pun sebaiknya dihindari. Kandungan ini bisa memicu eksim, rosacea, dan psoriasis.

3. Parfum

Produk kecantikan biasanya ditambahkan pewangi agar lebih menarik bagi konsumen. Namun pewangi berlebihan juga bisa menjadikan kulit kering. Bagi pemilik kulit kering, parfum berlebih pada produk kecantikan bahkan bisa memicu iritasi dan eksim.

4. Salicylic Acid

Kandungan salicylic acid biasanya ditemukan pada produk-produk skincare antijerawat atau kulit berminyak. Kandungan ini efektif untuk mencegah dan mengatasi jerawat. Namun efek sampingnya adalah menjadikan kulit kering.

Kandungan yang Ramah untuk Kulit Kering
Berikut ini beberapa jenis kandungan pada facial wash atau sabun muka yang baik untuk menjaga kelembapan kulit.

1. Polyethylene glycol
2. Alkyl-polyglycoside
3. Silicone surfactants
4. Lanolin
5. Parafin

Demikian berbagai kandungan dalam facial wash yang sebaiknya dihindari kulit kering dan kandungan yang ‘ramah’ terhadap kulit kering.